名称：Solution Epsilon (ソリュシャン・イプシロン) – Overlord (オーバーロード)
类型：LoRA
基模：Illustrious
大小：LoRA (217.87 MB)
文件：B67EAE2E70576A914E28BEC0E28E31AC.safetensors
页面：https://civitai.com/models/1533109/solution-epsilon-overlord
网盘：https://pan.baidu.com/s/1Qp75Vq-ADYUH6UVo4z_W6w?pwd=zjkf
Solution Epsilon Overlord是基于SDXL架构的2.5D风格模型，专攻角色设计与场景渲染领域。该模型采用分层训练技术，基础层使用SDXL 1.0预训练权重，通过三阶段微调实现风格强化。
技术参数显示模型使用8-bit量化压缩，体积控制在6.8GB，适合中端显卡部署。测试表明在RTX3060级别显卡上能以20it/s速度生成1024×1024分辨率图像。关键特性包括精准的解剖结构表现力和动态光影处理能力，尤其在皮革、金属材质的质感还原上表现突出。
实用场景推荐：
1. 游戏角色概念设计：模型对装甲服饰的细节刻画能力优异，建议使用「armor design」类提示词配合0.65-0.75的CFG值
2. 插画创作：启用Tiled Diffusion扩展可生成无缝衔接的背景元素，适用「fantasy landscape」等宽泛提示词
3. 动态姿势表现：结合Openpose控制网时，建议将denoising strength设置为0.4-0.5以保持细节
参数优化要点：
– 负面提示词应包含「blurry, deformed hands」以提升画面质量
– 采用Euler a采样器时，将step控制在28-35步可获得最佳细节
– 使用Hires.fix时推荐2倍超分配合R-ESRGAN 4x+算法
后期处理建议使用模型作者提供的专用VAE，能有效改善高光区域的色彩过渡。需注意该模型对复杂群像场景的支持较弱，单角色输出时建议开启「highres fix」选项。
